排污企業(yè)涉及廢氣排放的時(shí)候，都會(huì)設(shè)有專門的廢氣排氣筒。而環(huán)保管理部門在檢查排污企業(yè)的時(shí)候也經(jīng)常會(huì)對(duì)廢氣排放口是否符合規(guī)范、合規(guī)進(jìn)行檢查。廢氣排氣筒有相關(guān)要求和規(guī)范，企業(yè)建設(shè)也需要按照相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范建設(shè)，避免驗(yàn)收時(shí)或者環(huán)保檢查出現(xiàn)問(wèn)題，接下來(lái)為大家匯總梳理一下固定污染源廢氣排氣筒以及監(jiān)測(cè)平臺(tái)的建設(shè)。

    首先是排氣筒的高度在多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范中都有要求，目前主流的要求是排氣筒設(shè)置的排氣筒高度為15m，那么建設(shè)單位建設(shè)排氣筒的高度至少為15m。依據(jù)如下：

    1.《工業(yè)爐窯大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB9078-1996）
    ?各種工業(yè)爐窯煙囪(或排氣筒)最低允許高度為15m。
    ?1997年1月1日起新建、改建、擴(kuò)建的排放煙(粉)塵和有害污染物的工業(yè)爐窯,其煙囪(或排氣筒)最低允許高度除應(yīng)執(zhí)行4.6.1和4.6.3規(guī)定外,還應(yīng)按批準(zhǔn)的環(huán)境影響報(bào)告書要求確定。
    ?當(dāng)煙囪(或排氣筒)周圍半徑200m距離內(nèi)有建筑物時(shí),除應(yīng)執(zhí)行上述兩條規(guī)定外,煙囪(或排氣筒)還應(yīng)高出最高建筑物3m以上。
    ?1997年1月1日起新建、改建、擴(kuò)建的工業(yè)爐窯煙囪(或排氣簡(jiǎn))應(yīng)設(shè)置永久采樣、監(jiān)測(cè)孔和采樣監(jiān)測(cè)用平臺(tái)。

    2.《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)
    ?排氣簡(jiǎn)高度除須遵守表列排放速率標(biāo)準(zhǔn)值外,還應(yīng)高出周圍200m半徑范圍的建筑5m以上,不能達(dá)到該要求的排氣筒,應(yīng)按其高度對(duì)應(yīng)的表列排放速率標(biāo)準(zhǔn)值嚴(yán)格50%執(zhí)行。
    ?新污染源的排氣簡(jiǎn)一般不應(yīng)低于15m。若某新污染源的排氣筒必須低于15m時(shí),其排放速率標(biāo)準(zhǔn)值按上一條的外推計(jì)算結(jié)果再嚴(yán)格50%執(zhí)行。

    3.《鍋爐大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB13271-2014）
    ?每個(gè)新建燃煤鍋爐房只能設(shè)一根煙囪，煙囪高度應(yīng)根據(jù)鍋爐房裝機(jī)總?cè)萘?，按下表?guī)定執(zhí)行，燃油、燃?xì)忮仩t煙囪不低于8米，鍋爐煙囪的具體高度按批復(fù)的環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件確定。新建鍋爐房的煙囪周圍半徑200m距離內(nèi)有建筑物時(shí)，其煙囪應(yīng)高出最高建筑物3m以上。
    鍋爐房裝機(jī)總?cè)萘?/span>

    4.平臺(tái)建設(shè)：
    應(yīng)合理布置采樣平臺(tái)與采樣孔：
    a)采樣或監(jiān)測(cè)平臺(tái)長(zhǎng)度應(yīng)≥2m，寬度應(yīng)≥2m或不小于采樣槍長(zhǎng)度外延1m，周圍設(shè)置1.2m以上的安全防護(hù)欄，有牢固并符合要求的安全措施，便于日常維護(hù)(清潔光學(xué)鏡頭、檢查和調(diào)整光路準(zhǔn)直、檢測(cè)儀器性能和更換部件等)和比對(duì)監(jiān)測(cè)。
    b)采樣或監(jiān)測(cè)平臺(tái)應(yīng)易于人員和監(jiān)測(cè)儀器到達(dá),當(dāng)采樣平臺(tái)設(shè)置在離地面高度≥2m的位置時(shí)，應(yīng)有通往平臺(tái)的斜梯(或Z字梯、旋梯)，寬度應(yīng)>0.9m；當(dāng)采樣平臺(tái)設(shè)置在離地面高度>20m的位置時(shí)，應(yīng)有通往平臺(tái)的升降梯。
    c)當(dāng)CEMS安裝在矩形煙道時(shí)，若煙道截面的高度>4m，則不宜在煙道頂層開設(shè)參比方法采樣孔;若煙道截面的寬度>4m，則應(yīng)在煙道兩側(cè)開設(shè)參比方法采樣孔，并設(shè)置多層采樣平臺(tái)。

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